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制造技术

电镀工艺 (Plating Process)


Description
  • 达山Solueta是具备从电镀到粘着涂布100%一体化生产能力的EMI屏蔽·散热材料专业企业。(1工厂:电镀工艺 / 2工厂:粘着涂布工艺)
  • 通过化学镀·电解镀在非导体Polyester织物上形成均匀导电层,自主生产导电布(Conductive Fabric)。
  • 拥有电磁屏蔽·吸收及散热相关注册·申请专利21件。
Roll-to-Roll 连续电镀生产线
放卷 (Unwind) 前处理 Pre-Plating Main-Plating 收卷 (Rewind)
投入Polyester织物 脱脂 · 酸洗 · 催化 Ni · Cu
(化学镀)
Cu · Ni
(电解镀)
导电布完成
14道电镀工序
区分 工序步骤 作用
Pre-Plating 01 脱脂 → 02 酸洗 → 03 预浸 → 04 催化 → 05 活化 → 06 化学镀镍 → 07 硫酸铜 → 08 脱水 → 09 干燥 在非导体Polyester织物上
形成均匀导电层
Main-Plating 10 硫酸铜 → 11 电解镀镍 → 12 化学镀镍 → 13 脱水 → 14 干燥 调整电阻等特性
通过硫酸铜镀槽的织物 通过镍镀槽的织物

电解镀 vs 化学镀


Description
  • 电解镀 Electroplating : 通过外部电源还原金属离子。仅适用于导体表面,镀速快、成本低。
  • 化学镀(无电解镀) Electroless Plating : 无需电源,通过化学还原析出金属。是非导体导电化的必要步骤,均匀性优异。
比较
比较项目 电解镀 (Electroplating) 化学镀 (Electroless)
驱动原理 外部直流电源 镀液中还原剂的自发化学反应
适用材料 仅限导体 导体及催化处理后的非导体
(塑料 · Polyester)
沉积均匀性 因形状而不均匀
(棱角·凸起处过度沉积)
与基材形状无关
整个表面均匀·保形(Conformal)沉积
特点 镀速快 · 成本低 非导体导电化的必要步骤 · 均匀性优异
电解镀截面示意图 - 棱角·凸起处过度沉积 化学镀截面示意图 - 整个表面均匀沉积
克服非导体的局限 (塑料 / Polyester)
步骤 内容
① 蚀刻 通过选择性蚀刻在表面形成微观粗糙度 — ABS : 去除Butadiene / Polyester : 去除Ethylene Glycol
② 催化 在表面赋予Pd(钯)催化核
③ 化学镀析出 以暴露的Pd核为中心,镀液中的金属离子被还原·析出,在表面均匀生长
非导体电镀3步骤 - 蚀刻、催化、化学镀
化学镀反应 (Electroless Reaction)
  • R + H₂O → Ox + 2H⁺ + 2e⁻ (还原剂的氧化)
  • Mⁿ⁺ + 2e⁻ → M⁰ (金属离子的还原) 或 2H⁺ + 2e⁻ → H₂↑ (氢气析出)
  • 在混合电位(Mixed Potential)下氧化·还原速度一致,无需外部电源即可自发进行。

金属盐 还原剂 络合剂 pH调节剂 稳定剂
硫酸镍 (NiSO₄) 次磷酸钠 (NaH₂PO₂) 氯化铵 (NH₄Cl) 氨 (NH₃) Thiosulfate

  • 镍镀液组成示例
混合电位(Mixed Potential)曲线 - 氧化·还原速度的平衡点

粘着·涂布技术


Description
  • 在自主电镀的导电布上涂布自主配方的PSA(粘着剂),实现直至成品的一体化生产。
  • 针对不同用途优化调整Tg · 粘着力 · 内聚力 · 耐热性,设计高性能PSA。
粘着剂设计及高分子配方 (Formulation Design)
基础高分子 功能性添加剂 成果
Elastomer 增粘剂(Tackifier) · 交联剂(Cross-linker) · 软化剂(Softener) · 抗氧化剂(Antioxidant) · 填充剂(Filler) 高性能PSA粘着剂
涂布方式 (Coating Method)
方式 特点 说明 示意图
狭缝模头 (Slot Die) 精密涂布 通过狭缝模头定量挤出 — 幅宽方向均匀 · 高精度涂布 狭缝模头(Slot Die)涂布示意图
刮刀 (Comma) 厚膜 用Comma刮刀定量涂布 — 最适合厚膜·均匀涂布 刮刀(Comma)涂布示意图
凹版 (Gravure) 薄膜 用微细凹版辊精密转印 — 稳定的薄膜涂布 凹版(Gravure)涂布示意图
微凹版 (Micro-Gravure) 超薄膜 采用超小型凹版辊 — 超薄膜 · 高精度涂布 微凹版(Micro-Gravure)涂布示意图
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