| 放卷 (Unwind) | 前处理 | Pre-Plating | Main-Plating | 收卷 (Rewind) |
|---|---|---|---|---|
| 投入Polyester织物 | 脱脂 · 酸洗 · 催化 | Ni · Cu (化学镀) |
Cu · Ni (电解镀) |
导电布完成 |
| 区分 | 工序步骤 | 作用 |
|---|---|---|
| Pre-Plating | 01 脱脂 → 02 酸洗 → 03 预浸 → 04 催化 → 05 活化 → 06 化学镀镍 → 07 硫酸铜 → 08 脱水 → 09 干燥 | 在非导体Polyester织物上 形成均匀导电层 |
| Main-Plating | 10 硫酸铜 → 11 电解镀镍 → 12 化学镀镍 → 13 脱水 → 14 干燥 | 调整电阻等特性 |
| 比较项目 | 电解镀 (Electroplating) | 化学镀 (Electroless) |
|---|---|---|
| 驱动原理 | 外部直流电源 | 镀液中还原剂的自发化学反应 |
| 适用材料 | 仅限导体 | 导体及催化处理后的非导体 (塑料 · Polyester) |
| 沉积均匀性 | 因形状而不均匀 (棱角·凸起处过度沉积) |
与基材形状无关 整个表面均匀·保形(Conformal)沉积 |
| 特点 | 镀速快 · 成本低 | 非导体导电化的必要步骤 · 均匀性优异 |
| 步骤 | 内容 |
|---|---|
| ① 蚀刻 | 通过选择性蚀刻在表面形成微观粗糙度 — ABS : 去除Butadiene / Polyester : 去除Ethylene Glycol |
| ② 催化 | 在表面赋予Pd(钯)催化核 |
| ③ 化学镀析出 | 以暴露的Pd核为中心,镀液中的金属离子被还原·析出,在表面均匀生长 |
| 金属盐 | 还原剂 | 络合剂 | pH调节剂 | 稳定剂 |
|---|---|---|---|---|
| 硫酸镍 (NiSO₄) | 次磷酸钠 (NaH₂PO₂) | 氯化铵 (NH₄Cl) | 氨 (NH₃) | Thiosulfate |
| 基础高分子 | 功能性添加剂 | 成果 |
|---|---|---|
| Elastomer | 增粘剂(Tackifier) · 交联剂(Cross-linker) · 软化剂(Softener) · 抗氧化剂(Antioxidant) · 填充剂(Filler) | 高性能PSA粘着剂 |
| 方式 | 特点 | 说明 | 示意图 |
|---|---|---|---|
| 狭缝模头 (Slot Die) | 精密涂布 | 通过狭缝模头定量挤出 — 幅宽方向均匀 · 高精度涂布 | ![]() |
| 刮刀 (Comma) | 厚膜 | 用Comma刮刀定量涂布 — 最适合厚膜·均匀涂布 | ![]() |
| 凹版 (Gravure) | 薄膜 | 用微细凹版辊精密转印 — 稳定的薄膜涂布 | ![]() |
| 微凹版 (Micro-Gravure) | 超薄膜 | 采用超小型凹版辊 — 超薄膜 · 高精度涂布 | ![]() |